CTS-1020探傷儀DAC曲線制作與應(yīng)用|啟航檢測(cè)科技（上海）有限公司全國(guó)提供

4.3  DAC曲線制作與刪除

DAC曲線即距離-波幅曲線，是描述某一特定規(guī)則反射體的回波高度隨距離變化的曲線，在斜探頭探傷時(shí)，由于橫波聲場(chǎng)的理論推導(dǎo)計(jì)算非常復(fù)雜，也不成熟，常利用距離-波幅曲線來(lái)對(duì)缺陷定量和評(píng)價(jià)。

距離-波幅曲線可以通過(guò)試塊實(shí)測(cè)得到，也可通過(guò)理論計(jì)算公式得到，但理論計(jì)算只適用于>3N(近場(chǎng)區(qū))，所以本儀器距離-波幅曲線需要通過(guò)試塊實(shí)測(cè)，然后儀器自動(dòng)制作距離-波幅曲線。

4.3.1  DAC曲線的制作

在制做DAC曲線過(guò)程中，范圍、dB、移位均不可以再調(diào)節(jié)，但△dB、閘門等其他參數(shù)可調(diào)節(jié)。另外，DAC曲線和探頭非常相關(guān)，在制作DAC曲線前，用戶需對(duì)探頭延時(shí)、K值進(jìn)行標(biāo)定。否則所制作DAC曲線可能錯(cuò)誤。

DAC曲線可根據(jù)不同標(biāo)準(zhǔn)要求制作，相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)包括：NB47013、GB11345、ASME、ASME Ⅲ、JIS、EN1712。此外，還可以自定義曲線，最多可制作7條曲線。

操作步驟：

a) 按-【功能】-【DAC】進(jìn)入圖4-3；

b) 按【標(biāo)準(zhǔn)】選擇相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)制作DAC曲線；按【參數(shù)】設(shè)置DAC曲線參數(shù)；

圖4-3  DAC曲線功能界面

c) 按【制作】進(jìn)入DAC曲線制作，如圖4-4。移動(dòng)閘門，套住參考回波，按【記錄】(在制作過(guò)程中,用戶需尋找第一記錄點(diǎn)回波時(shí),只需按【H2】鍵閘門自動(dòng)套住回波，再按自動(dòng)增益,可免去移動(dòng)閘門及調(diào)整dB的步驟。)

d) 按【制作完成】，即可完成曲線制作。

圖4-4  DAC曲線的制作界面

4.3.2  DAC曲線的修正

    操作步驟：

a) 按-【功能】-【DAC】-【制作】，選擇【修正】進(jìn)入菜單，如圖4-5；

b) 選擇【第幾點(diǎn)】后，再選擇【高度】，旋轉(zhuǎn)旋鈕即可；

c) 選擇【刪除】則可直接刪除曲線點(diǎn)。

圖4-5　DAC曲線修正界面

4.3.3  DAC曲線的報(bào)警及存儲(chǔ)

用閘門1選通DAC曲線內(nèi)回波，此時(shí)如果回波超過(guò)某一曲線，相應(yīng)幅度結(jié)果將以當(dāng)量顯示。例如“SL＋1.1"表示該缺陷波峰點(diǎn)位于曲線區(qū)并超過(guò)定量線1.1dB。當(dāng)閘門1回波幅度超過(guò)定量線時(shí),曲線會(huì)通過(guò)變顏色進(jìn)行報(bào)警提醒。

DAC曲線的存儲(chǔ)功能包括探傷參數(shù)及DAC曲線參數(shù)的保存。

存儲(chǔ)操作如下：在DAC曲線功能狀態(tài)下(顯示DAC符號(hào))，按　　　鍵或按-【數(shù)據(jù)】-【存儲(chǔ)】打開保存界面。

4.4  AVG曲線制作與刪除

    在超聲波探傷中，自然缺陷的形狀、性質(zhì)和方向各不相同，回波相同的缺陷實(shí)際上往往相差很大，為此特引進(jìn)“當(dāng)量尺寸"來(lái)衡量缺陷的大小。在相同的探測(cè)條件下，當(dāng)自然缺陷與某形狀規(guī)則的人工缺陷回波等高時(shí)，則該人工缺陷的尺寸就為此自然缺陷的當(dāng)量尺寸。

    描述規(guī)則反射體的距離、波幅、當(dāng)量大小之間的關(guān)系曲線稱為距離-波幅-當(dāng)量曲線，德文稱AVG曲線，英文為DGS曲線。

    本儀器提供“實(shí)用AVG曲線"功能。只適用于特定直探頭，可以用來(lái)調(diào)整探傷靈敏度和缺陷定量，可以檢測(cè)鍛件、細(xì)晶體鑄件、型材等。

使用時(shí)請(qǐng)注意：

a) 在制作AVG曲線時(shí)，要注意所用探頭的頻率和晶片尺寸是否適宜，在參數(shù)菜單中的數(shù)值是否正確；在制作AVG時(shí)，理論上只計(jì)算了三倍近場(chǎng)區(qū)之后的數(shù)值，三倍近場(chǎng)區(qū)之前僅顯示為直線，如果用戶所用試塊深度較小，則需用多次波，使所需回波處于三倍近場(chǎng)區(qū)之后；

b) 不考慮試塊的介質(zhì)衰減系數(shù)與被檢工件的介質(zhì)衰減 兩者之間的差別；

c) 不考慮耦合條件的不同（試塊、工件不同的表面狀態(tài)）；

注:

參考類型可選擇：大平底或平底孔，平底孔參考尺寸可設(shè)置為0.5mm～10mm。

AVG曲線尺寸：0.5mm～10mm，步進(jìn)0.1mm。

操作步驟：( 2.5P20直探頭，200φ2的平底孔為例)

a) 按-【功能】-【AVG】；

b) 【參數(shù)】-【參考類型】，選擇“平底孔"；

c) 選擇【參考尺寸】φ2；

d) 選擇【曲線尺寸】φ2；

e) 耦合探頭（2.5P20）到200φ2的平底孔試塊上，找到該平底孔的最高反射波，將閘門套住該回波；

f) 選擇【制作】-【記錄】即可完成曲線制作；

g) 選擇【關(guān)閉AVG】，將刪除曲線并退出功能；曲線制作完成后，如需刪除重新制作，選擇【重新制作】。

曲線制作完成后，在測(cè)量結(jié)果顯示區(qū)最后一行將顯示測(cè)量結(jié)果，其中第一個(gè)數(shù)據(jù)表示回波幅度相對(duì)與AVG曲線的dB差，如+2dB（表示回波幅度高出AVG曲線2dB）。第二數(shù)據(jù)表示缺陷當(dāng)量，如2.0mm（表示缺陷大小相當(dāng)于φ2.0mm的平底孔）。

圖4-6  AVG曲線制作界面

4.5  API 5UE缺陷深度定量計(jì)算

操作步驟：

a) 選擇【開啟功能】；

b) 選擇【Dr】，輸入標(biāo)定校準(zhǔn)的參考指示體（已知深度的刻槽或通孔的深度）；

c) 按，調(diào)節(jié)合適的探測(cè)范圍；

d) 選擇【開啟峰值】；

e) 將探頭放置到標(biāo)準(zhǔn)試塊并確認(rèn)耦合良好；

f) 移動(dòng)探頭，使屏幕形成API 5UE所要求的動(dòng)態(tài)回波包絡(luò)；

g) 移動(dòng)閘門1套住回波包絡(luò)；

h) 選擇【計(jì)算因子K】；

i) 將探頭放置到待檢測(cè)工件并確認(rèn)耦合良好；移動(dòng)探頭，使屏幕形成API 5UE所要求的動(dòng)態(tài)回波包絡(luò)；

j) 選擇【Di】進(jìn)行計(jì)算。

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